Zuckerberg mówi, że Meta jest blisko znacznie mocniejszych modeli AI

Zuckerberg mówi, że Meta jest blisko znacznie mocniejszych modeli AI

Ukazał się niedawno bardzo ciekawy wywiad Alexa Heatha z Markiem Zuckerbergiem, w którym padło dość mocne zdanie. Zuckerberg powiedział, że jednym z powodów publikacji jego nowego "AI manifestu" właśnie teraz jest to, że Meta jest bardzo blisko posiadania znacząco mocniejszych modeli. Chce więc, żeby ludzie wcześniej rozumieli wartości i filozofię, według których firma zamierza te modele rozwijać.

Sam manifest Zuckerberga o przyszłości AI jest bardzo wyraźnym opowiedzeniem się za szeroką dystrybucją superinteligencji zamiast koncentracją jej w rękach kilku firm czy instytucji. Argumentuje, że największą wartością AI ma być nie automatyzacja ludzi, ale "zwiększanie ich możliwości tworzenia, prowadzenia biznesów, nauki czy odkryć naukowych, a Meta chce budować osobistą superinteligencję dostępną docelowo dla miliardów użytkowników" (parafraza).

To jest istotne również dlatego, że obecna narracja wokół Meta AI nadal pozostaje obciążona budową Meta Superintelligence Labs i ogromnymi wydatkami na ludzi oraz infrastrukturę bez jeszcze widocznych przychodów. Zuckerberg sugeruje jednak, że efekty tych działań mogą być już naprawdę blisko.

Pierwsze sygnały zaczynają się pojawiać. Muse Spark został dobrze przyjęty, a Muse Glimmer to model o 30 mld parametrów, który według testów Meta wypada lepiej od podobnej wielkości modeli Gemma i Qwen w części benchmarków agentowych. Do tego Muse Spark 1.2 ma zostać udostępniony w najbliższych tygodniach, a Meta opisuje go jako kolejny krok w stronę frontier.

Najciekawsze pozostaje jednak samo sformułowanie Zuckerberga. Nie mówi, że Meta kiedyś chce dojść do czołówki. Mówi wprost, że jest bardzo blisko znacząco mocniejszych modeli.

12 sie 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)