Pęknięcie bańki lewarowanych ETF w Korei Południowej nasila się

Pęknięcie bańki lewarowanych ETF w Korei Południowej nasila się

Aktywa zarządzane trzech największych podwójnie lewarowanych długich ETF-ów SK Hynix spadły o ponad -55% od szczytu w czerwcu. Te trzy fundusze to CSOP 2x leveraged long SK Hynix ETF, notowany w Hongkongu, największy na świecie ETF z pojedynczym lewarem, a także notowany w Korei Samsung KODEX 2x Leveraged SK Hynix ETF oraz Mirae Asset TIGER 2x Leveraged SK Hynix ETF.

W szczytowym okresie te trzy ETF-y SK Hynix posiadały aktywa o wartości ponad 23 miliardów dolarów, przekraczając 2,5x średni dzienny wolumen obrotu lokalnie notowanych na giełdzie spółki.

Fundusze te wykorzystują swapy i opcje, aby utrzymać swoją dwukrotną dzienną ekspozycję. W miarę jak cena akcji bazowych się zmienia, wskaźnik dźwigni funduszy również się zmienia, zmuszając je do rebalansowania z powrotem do docelowej ekspozycji.

Dlatego gdy akcje SK Hynix spadają, fundusze muszą sprzedać dodatkową ekspozycję, co potencjalnie zwiększa presję na akcje i cały rynek koreański.

Wszystkie te produkty są obecnie notowane poniżej cen startowych. To świetny przykład na to, jak zbyt chciwi inwestorzy detaliczni tracą pieniądze.

17 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)