Sesja niskiej zmienności i wysokich obrotów

Sesja niskiej zmienności i wysokich obrotów

Gdyby patrzeć wyłącznie przez pryzmat giełdowego benchmarku, dzisiejsza sesja w Warszawie nie dostarczyła inwestorom zbyt wielu atrakcji. WIG20 podobnie jak wczoraj zakończył dzień niewielką zmianą procentową, z tą tylko różnicą, że wahania w trakcie dnia były minimalnie większe.

Lepiej to wyglądało na poszczególnych spółkach, z których niekwestionowanym bohaterem jest Żabka. Kurs akcji po wzroście o blisko 11% kończy dzień nowym rekordem w cenach zamknięcia z ATH w trakcie sesji, kiedy rósł nawet 17,5%. Powód - pojawiła się informacja, że Seven & i, japoński koncern detaliczny, który zarządza m.in. globalną siecią sklepów 7-Eleven, wszedł w fazę końcowych ustaleń dotyczących inwestycji w sieć Żabka. Rozważa nabycie kilkudziesięciu procent udziałów.

Spadek tylko o 0,2% to także główna zasługa Żabki. Ten walor dodał indeksowi najwięcej punktów. Po przeciwnej stronie znalazł się KGHM oraz banki na czele z PKO BP.

Na uwagę zasługują dziś obroty. Na całym portfelu WIG20 wyniosły niemal 3 miliardy złotych, z czego ponad 800 milionów było udziałem Żabki, a blisko pół miliarda dostarczyło Allegro.

Na wykresie dziennym sytuacja WIG20 pozostała praktycznie bez zmian. Nowe maksimum hossy odhaczone. Korekta jest kosmetyczna, a w przypadku jej pogłębienia byki będą miały do dyspozycji wsparcie w rejonie 3700 pkt.

16 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)