Wzrost WIG20 przyspiesza. Nowe rekordy notowań na GPW zdecydowanie silniejszej od europejskich konkurentów

Wzrost WIG20 przyspiesza. Nowe rekordy notowań na GPW zdecydowanie silniejszej od europejskich konkurentów

Nie wiadomo jak zakończy się tegoroczny wrzesień na GPW w Warszawie. Jak na razie jest jednak znakomity i oby tak dalej. Indeks WIG20 w trakcie pierwszych sześciu sesji bieżącego miesiąca zyskał na wartości 3,6% ustanawiając przy tym od piątku trzy kolejne historyczne rekordy. Rewelacyjnie od początku miesiąca prezentuje się też na tle głównych europejskich benchmarków na czele z DAX, który w tym samym czasie spadł o 1,1%. Wzrost polskiego indeksu w środowisku niesprzyjającego otoczenia jest szczególnie cenny, ponieważ świadczy o wyjątkowej odporności i sile krajowego rynku akcji.

Początek sesji nie zapowiadał się okazale. Nasz rynek solidarnie z głównymi parkietami europejskimi rozpoczął handel od spadku WIG20 o 0,4%. Po ok. kwadransie notowań spadek został pogłębiony do -0,6%, ale to było dziś wszystko, na co stać było podażową stronę rynku. Kolejne fragmenty sesji przynosiły systematyczną poprawę notowań, co ostatecznie doprowadziło do końcowego wzrostu o +1,3%. Oznacza to, że od dziennego minimum do zamknięcia sesji benchmark wzrósł o +1,9%, a do maksymalnego kursu dnia nawet o +2%.

Na wykresie dziennym WIG20 nowe historyczne rekordy jedynie potwierdzają siłę średnioterminowego trendu wzrostowego, który przez pięć kolejnych sesji kontynuowany jest z pełną konsekwencją. Potwierdza to także pozytywne momentum widoczne na oscylatorach. Te nie są jeszcze wykupione, co pozostawia bykom przestrzeń do dalszego wzrostu, choć RSI(14) jest o włos od poziomu 70.

08 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)