Wyniki CD Projektu grubo powyżej oczekiwań i słaba reakcja rynku

Wyniki CD Projektu grubo powyżej oczekiwań i słaba reakcja rynku

Po zakończeniu wczorajszej sesji CD Projekt opublikował znacznie lepsze od oczekiwań wyniki za II kwartał. I tak:

Przychody: 244,2 mln zł vs konsensus 200 mln zł (22,1%)

EBITDA: 161,4 mln zł vs konsensus 110,1 mln zł (46,6%)

EBIT: 148,3 mln zł vs konsensus 94 mln zł (57,7%)

Zysk netto: 142,9 mln zł vs konsensus 99,3 mln zł (43,9%)

Posiadacze akcji nie mają jednak szczęścia co do sesji, gdzie obserwujemy reakcję. Przy słabszych ogólnych nastrojach kurs CD Projektu rośnie „tylko” 2,3%. Wydaje się, że przy lepszych nastrojach całego rynku reakcja mogłaby być znacznie mocniejsza.

Na wykresie dziennym bykom udało się podejść z dołu do średniej SMA50, ale to na razie wszystko na co stać dziś stronę popytową. Po pierwszej reakcji budowana jest obecnie czarna świeca. Ostatnie 3 tygodnie upłynęły pod znakiem dynamicznych spadków i dzisiejszą reakcję rynku na znacznie lepsze wyniki też trzeba ocenić słabo.

03 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)