Mocny wzrost indeksu PMI dla przemysłu strefy euro

Mocny wzrost indeksu PMI dla przemysłu strefy euro

Indeks PMI dla przemysłu strefy euro rośnie we wrześniu do poziomu 52,7 pkt. z 51,9 pkt. w sierpniu. Odczyt jest zbliżony do oczekiwań na poziomie 52,8 pkt. Jest to jednocześnie najwyższa wartość indeksu w ciągu 51 miesięcy.

W komentarzu do raportu czytamy m.in.: „Sierpniowy raport PMI dostarczył najwyraźniejszych jak dotąd sygnałów, że gospodarka przemysłowa strefy euro otrząsnęła się zarówno z szoku cenowego ropy naftowej, jak i z zakłóceń w dostawach spowodowanych wojną na Bliskim Wschodzie. Silniejszy wzrost portfela zamówień, częściowo dzięki ożywieniu popytu eksportowego, powinien dać tej ekspansji solidne podstawy.

„Podział danych PMI na trzy główne grupy przemysłowe ujawnił, że podsektor dóbr pośrednich jest głównym czynnikiem wzrostu produkcji. Obejmuje on kluczowe branże, takie jak chemia i metale, a także urządzenia elektryczne i komponenty elektroniczne, co sugeruje, że strefa euro również może być beneficjentem supercyklu technologicznego, nawet jeśli spóźnia się z jego udziałem.

„Dalsze osłabienie wzrostu cen producenta, nawet w obliczu utrzymującej się zmienności na rynku ropy naftowej, pomaga złagodzić ogólne obawy dotyczące inflacji. Niemniej jednak tempo dezinflacji zaczyna się stabilizować, a wskaźniki cen PMI utrzymują się znacznie powyżej poziomów sprzed wojny, co może jedynie zachęcić decydentów monetarnych strefy euro do ostrożnego podejścia”.

01 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)