Bankowy prysznic w Warszawie

Bankowy prysznic w Warszawie

Za nami trudna dla byków sesja na GPW z całodziennym spadkiem WIG20 zakończonym blisko 2% spadkiem, na który rano się nie zanosiło. Zwłaszcza że, przed startem rynku kasowego kontrakty na WIG20 wspólnie ze swoimi europejskimi odpowiednikami rosły ok. 0,2%.

Ciężkie chwile dla byków rozpoczęły się zaraz po otwarciu rynku kasowego, kiedy do głosu doszła podaż akcji spółek sektora bankowego. Silna wyprzedaż dotknęła wszystkie banki wchodzące w skład głównego indeksu od Pekao (-3,05%) po Alior (-2,01%). Odrębnym tematem była silna przecena Kruka (-7,68%). Ten ostatni zaliczył solidny, ale trochę zaskakujący co do skali spadek po publikacji wyników, które były zgodne z wcześniejszymi szacunkami zarządu spółki przedstawionymi 11 sierpnia.

Choć spadek WIG20 o niespełna 2% nie jest katastrofą, to jednak na tle wzrostu DAX o 0,3% z pewnością jest irytujący. Zwłaszcza, że trudno wskazać konkretny powód takiej relatywnej słabości naszego rynku, w szczególności banków. Sektorowy benchmark WIG-Banki stracił 2,71%.

Po dzisiejszej sesji sytuacja techniczna WIG20 nie uległa zasadniczej zmianie. Owszem, dzisiejsza czarna świeca na wykresie dziennym nie wygląda dobrze, jednak na razie co cofnięcie można traktować w kategoriach incydentu. Czy był to wypadek przy pracy zdecydują kolejne dni. W najkrótszym terminie kurs benchmarku ma przed sobą mini wsparcie na poziomie dolnego ograniczenia konsolidacji w rejonie 3.925 pkt., a następne na poziomie rosnącej średniej SMA50 (dziś 3.836,72 pkt.). Powyżej tych pułapów przewaga pozostaje po stronie byków. Z kolei niedźwiedziom sprzyja obecnie negatywne momentum widoczne na wskaźnikach.

27 sie 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)