Kolejne tąpnięcie półprzewodników w Azji

Kolejne tąpnięcie półprzewodników w Azji

Wtorek przyniósł znaczące pogłębienie przeceny na giełdach azjatyckich. Szczególnie ucierpiała giełda w Seulu, której benchmark KOSPI stracił ponad 10%. Mocne uderzenie zanotowały też akcje na giełdzie w Tokio, gdzie indeks Nikkei 225 spadł ponad 4%. Bykom nie wiodło się także na Taiwanie. Tamtejszy benchmark TAIEX zniżkował 4,65%. Wszystkie te spadki mają część wspólną – półprzewodniki.

W Korei Południowej SK Hynix spadł o ponad 13%, podczas gdy Samsung Electronics spadł o ponad 12%. Inne marki powiązane z AI również odnotowały dużą wyprzedaż – Samsung SDI spadł o ponad 10%, LG Innotek o prawie 18%, Seoul Semiconductor o około 7%, a LG Chem stracił ponad 6%.

Akcje chipów w Japonii również spadły. Tokyo Electron spadł o prawie 11%, Advantest spadło o ponad 10%, podczas gdy Grupa SoftBank, głównego wskaźnika inwestycji AI poprzez swój udział w Arm, spadła o 6,3%. Akcje japońskiego producenta pamięci komputerowej Kioxia spadły o ponad 18%.

Tajwański TSMC spadł o 2,9%. Technologicznie nastawiony na Chiny kontynentalne Indeks ChiNext 300 spadł o 4,7%, podczas gdy indeks chipów półprzewodnikowych Hang Seng China spadł o 5%.

Wyprzedaż nastąpiła po kolejnej słabej sesji amerykańskich spółek półprzewodnikowych wczoraj. VanEck Semiconductor ETF (SMH) stracił ponad 2%, co powiększyło piątkowe straty. AMD i Teradyne spadły odpowiednio o 5% i 4%. Micron Technology stracił około 2%. Słabość ta podkreśla, jak mocno azjatyckie akcje technologiczne i amerykański handel AI stały się ze sobą powiązane.

Indeks KOSPI po dzisiejszym tąpnięciu traci już od czerwcowego szczytu ponad jedną trzecią i na razie nie widać przesłanek do odwrócenia tej krótkoterminowej, ale jakże bolesnej tendencji. Na wykresie dziennym kurs benchmarku przebił się w dół przez poziom 6500 pkt. i z pełną konsekwencją zmierza do przetestowania średniej SMA200. Jeśli na tym pułapie nie nastąpi zatrzymanie spadków, to kolejnego wsparcia trzeba będzie szukać w rejonie 5000 pkt.

28 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)