Spadek akcji chipów obciążył Nasdaq

Spadek akcji chipów obciążył Nasdaq

Wczorajsza sesja na Wall Street rozpoczęła się optymistycznie w reakcji na znaczny spadek cen ropy po tym, jak USA wstrzymały ataki na Iran. Niestety finał notowań za oceanem nie był taki mocny. Na otwarciu Nasdaq 100 wzrósł 1% i w pierwszych minutach handlu naruszył maksima sesji piątkowej. Dość szybko jednak początkowy wzrost przekształcił się w spadek rzędu 1,2% by ostatecznie zamknąć się 0,3% pod kreską.

Poniedziałek był kolejnym złym dniem dla akcji chipów. Spektakularny debiut chińskiego producenta układów pamięci CXMT na giełdzie wzbudził obawy przed konkurencją wśród amerykańskich firm, zwłaszcza po wiadomościach, że Apple lobbuje administrację Trumpa za pomocą chińskich chipów w niektórych swoich produktach.

Akcje Nvidii spadły o 5%, oddając tytuł największej amerykańskiej firmy pod względem kapitalizacji rynkowej Apple, po raporcie dotyczącym projektu OpenAI wartego 250 miliardów dolarów. Tymczasem akcje Alphabet wzrosły wczoraj o około 2%, ale spadły o 4,5% od czasu, gdy firma w raporcie z 22 lipca ujawniła ujemne przepływy pieniężne w związku z dużymi wydatkami na AI.

Każda akcja z indeksu PHLX Semiconductor zamknęła się wczoraj poniżej swojej 50-dniowej średniej kroczącej po raz pierwszy od kwietnia 2025 roku. Indeks zakończył dzień spadkiem o 2,2%.

Indeks Nasdaq 100 po spadku o 0,3% wyznaczył nowe minimum cofnięcia zainicjowanego na początku czerwca. Wzrost na starcie sesji o 1% spełniał warunki ruchu powrotnego do co najmniej naruszonego wsparcia w rejonie 28.500 pkt. Jeśli benchmark szybko nie odzyska tego pułapu, to realne stanie się ryzyko dalszego spadku w kierunku średniej SMA200.

28 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)