Nowy dyplomatyczny trop, żeby zgasić nawracającą niczym bumerang wojnę z Iranem

Nowy dyplomatyczny trop, żeby zgasić nawracającą niczym bumerang wojnę z Iranem

Pojawił się nowy trop w stronę zgaszenia eskalującej ostatnio wojny z Iranem. Reuters podaje, że Pakistan, z inicjatywy Chin, sonduje wznowienie zawieszonych rozmów USA z Iranem po prawie pięciu miesiącach wojny. W tym tygodniu był w Islamabadzie irański minister spraw wewnętrznych, bliski Gwardii Rewolucyjnej, już drugi raz w dziesięć dni, a szef pakistańskiej dyplomacji rozmawiał o tym z Chińczykami w zeszłym tygodniu. Klucz to interes Pekinu (największego partnera handlowego Iranu i głównego odbiorcy jego ropy), któremu zamknięcie Ormuz i blokada Huti na Morzu Czerwonym uderzają wprost w szlaki handlowe.

Czerwcowe memorandum USA z Iranem już się jednak wypaliło, w czwartek Huti uderzyli w dwa saudyjskie tankowce, a wstrzymanie ataków na Arabię i Zatokę jest teraz warunkiem wstępnym jakichkolwiek rozmów. Co z tego dla rynku? Naszym zdaniem sam temat jest już fundamentalnie nieistotny, ale wciąż rusza notowaniami ropy, a im niższa ropa, tym lepiej. Każde wiarygodne odprężenie tego nawracającego co jakiś czas ryzyka geopolitycznego jest więc pozytywne, bo tańsza ropa zdejmuje presję z obligacji i wspiera akcje.

Źródło: Reuters — „Pakistan, Iran explore path towards new talks with US in a China-initiated push" (24.07.2026)

24 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)