Huang broni chińskiego open-source i punktuje panikę wokół Kimi

Huang broni chińskiego open-source i punktuje panikę wokół Kimi

Jensen Huang w ekskluzywnym wywiadzie dla Axios (Behind the Curtain, Mike Allen, 22 lipca) stanął w obronie chińskich modeli open-source i uznał panikę wokół Kimi za odwróconą do góry nogami. Chińskie modele nazywa doskonałymi, twierdzi, że amerykańskie firmy powinny móc ich używać, a strach przed backdoorami do Pekinu odbija, bo modele da się pobrać, dostroić i odpalić w zamkniętym sandboxie, a otwartość jego zdaniem czyni AI bezpieczniejszym. O rywalizacji z Chinami mówi krótko, zero szans, żeby zepchnęły amerykańskie firmy z drogi.

Treść dostępna tylko dla użytkowników DNA Premium

W DNA Premium znajdziesz obszerne analizy, komentarze rynkowe, omawiane strategie i materiały pomagające Ci lepiej rozumieć rynek oraz podejmować swoje decyzje inwestycyjne bardziej świadomie.

Dostęp już od 75 zł miesięcznie.

22 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)