Japońskie akcje weszły w korektę techniczną
Japońskie akcje weszły w korektę techniczną
Nikkei 225 spadł ostatecznie „tylko” o 4%, co sprawia, że obecnie traci ponad 10% od szczytu z 25 czerwca. To oznacza korektę techniczną i największy tygodniowy spadek od kwietnia 2025 roku. Szerszy indeks Topix spadł o 2,7%, przy czym sam Tokyo Electron najbardziej przyczynił się do spadku po spadku o 8,2%. Szerokość rynku była słaba – 810 akcji spadło wobec 788 wzrostów i 39 pozostałych bez zmian.
Dzieje się to w momencie, gdy inwestorzy coraz bardziej obawiają się, że nakłady inwestycyjne związane z AI przewyższają zwroty. TSM spadł mimo podniesienia zarówno celów wydatkowych, jak i przychodów, odzwierciedlając wyprzedaż Samsunga na początku tego miesiąca, mimo że przekroczył prognozy zysków.
Kioxia Holdings przewodziła stratom, spadając o 16%, co jest największym jednodniowym spadkiem od listopada 2025 roku. Jej kapitalizacja rynkowa została zmniejszona o połowę w ciągu zaledwie miesiąca po krótkim staniu się najcenniejszą firmą Japonii.
Euforia AI w sektorze półprzewodników słabnie.
Najnowsze.
FTAI rozszerza współpracę z United Airlines. Kolejne potwierdzenie przewagi modelu MRE
Kolejna dobra wiadomość dla akcjonariuszy FTAI Aviation. Spółka ogłosiła rozszerzenie wieloletniej współpracy z United Airlines na silniki CFM56-7B, wykorzystywane w samolotach Boeing 737 Next Generation. Dotychczas obie firmy współpracowały przy silnikach V2500, a teraz United, jeden z największych operatorów CFM56-7B na świecie, zdecydował się objąć tym samym modelem obsługi kolejną część swojej floty. Co ważne, program rozpoczął się już od pierwszej grupy silników w 2026 roku i ma być stopniowo rozszerzany wraz z terminami kolejnych przeglądów.
Dlaczego to takie ciekawe?
ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat
Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.
Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.
Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.
Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.
Wielcy pokazali karty, czyli co agenci Google, OpenAI i Microsoftu mówią o Mecie
Similarweb policzył, że 5 października Muse miało 2,182 mln dziennych aktywnych użytkowników w aplikacjach na iPhone'a i Androida. Trzynastego września, według odczytu z tego samego wykresu, było ich około 0,2 mln, więc w trzy tygodnie liczba wzrosła około dziesięciokrotnie.
Ponad dwa tygodnie po moim webinarze o Mecie swoich nowych agentów pokazali Microsoft, OpenAI i Google, więc sprawdzam przy okazji, co z tego, co mówiłem 22 września, na razie się potwierdza.