USA znajdują się na niezrównoważonej ścieżce fiskalnej

USA znajdują się na niezrównoważonej ścieżce fiskalnej

W ciągu pierwszych 11 miesięcy roku budżetowego 2026 deficyt USA osiągnął poziom 1,97 bln USD, co stanowi czwarty najwyższy wynik odnotowany na tym etapie roku budżetowego w historii. Kwota ta już teraz przewyższa deficyt za cały rok budżetowy 2025, który wyniósł 1,78 bln USD.

W sierpniu deficyt budżetowy Departamentu Skarbu USA spadł – w ujęciu rok do roku – o 178 mld USD (czyli o 51%), osiągając poziom 167 mld USD.

Spadek ten wynikał ze zmniejszenia wydatków rządowych o 162 mld USD rok do roku (do 527 mld USD), jednak w dużej mierze był on efektem przesunięcia w kalendarzu wypłaty w ramach programów Medicare i Social Security. Ponieważ wypłaty z tego tytułu zazwyczaj realizowane są pierwszego dnia miesiąca, a w tym roku 1 sierpnia przypadł w sobotę, wypłaty zostały przesunięte na lipiec.

Jednak po uwzględnieniu tych płatności, stanowiących jedne z największych pozycji wydatków federalnych, miesięczny deficyt wzrósł o 7 mld USD rok do roku, osiągając poziom 248 mld USD (według danych Departamentu Skarbu USA).

14 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)