Produktywność w USA nadal rośnie szybciej niż koszty pracy

Produktywność w USA nadal rośnie szybciej niż koszty pracy

Produktywność pracy w II kwartale wzrosła w USA o 1,4% annualizowane q/q i 2,2% r/r. Jednostkowe koszty pracy zwiększyły się natomiast tylko o 1,2% w ujęciu annualizowanym, mniej niż wcześniej szacowane 1,3%, a przez ostatnie cztery kwartały o 1,4%. W samym przemyśle jednostkowe koszty pracy nawet spadły o 0,3% k/k annualizowane.

Dla naszej historii o AI jest to naprawdę ważne. Od dawna mówimy, że największą makroekonomiczną obietnicą AI nie jest to, że firmy kupią więcej GPU, tylko że gospodarka zacznie produkować więcej przy tej samej liczbie godzin pracy. Na razie dane idą dokładnie w tym kierunku. Nie udowadniają jeszcze, że wszystko jest zasługą AI, ale wyższa produktywność przy ograniczonej dynamice kosztów pracy jest jednym z niewielu sposobów, żeby USA mogły utrzymać mocny wzrost bez kolejnej eksplozji inflacji.

03 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)