Kryzys zadłużenia USA osiągnął bezprecedensowy poziom

Kryzys zadłużenia USA osiągnął bezprecedensowy poziom

Średnia rentowność 30-letnich obligacji skarbowych w 2026 roku wynosi 4,96%, co stanowi najwyższy poziom od 22 lat. Rentowność jest na dobrej drodze do szóstego z rzędu rocznego wzrostu, z poziomu ok. 1,5% w 2020 roku.

Rentowność 30-letnich obligacji skarbowych utrzymywała się również powyżej 5,00% przez łącznie 58 dni handlowych, co jest najdłuższym okresem od 20 lat. Nawet w 2007 roku, na początku Globalnego Kryzysu Finansowego, odnotowano „tylko” 50 takich dni, podczas gdy w 2023 roku było ich zaledwie 7.

Problem wykracza poza rentowność: ogromny deficyt budżetowy, rekordowy poziom zadłużenia, rosnące koszty odsetek oraz kolejna fala emisji korporacyjnych i obligacji skarbowych zwiększają podaż długu, który inwestorzy muszą zaabsorbować.

Ponieważ płatności odsetkowe pochłaniają rekordowe 20% dochodów federalnych, długoterminowe rentowności mogą mieć trudności ze znaczącym spadkiem, dopóki deficyt budżetowy nie zostanie opanowany.

Dług USA nie jest już tylko problemem fiskalnym, stał się kluczowym ryzykiem dla rynków finansowych.

03 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)