Jen pod presją interwencji

Jen pod presją interwencji

Jen wzrósł o 1,5% do poziomu 156,36 za dolara amerykańskiego, co stanowi jego najwyższy poziom od miesiąca, ponieważ inwestorzy szybko zwiększają swoje zakłady na bardziej agresywną politykę Banku Japonii.

Członek zarządu Banku Japonii, Hajime Takata, powiedział, że podwyżka stóp o 25 punktów bazowych nie jest jeszcze przesądzona i możliwe są kolejne podwyżki stóp procentowych, co skłoniło rynki do niemal pełnego wyceniania podwyżki w tym miesiącu.

Rynki ponownie znalazły się pod presją interwenci, a narastają spekulacje, że japońskie władze interweniowały we wtorek, gdy kurs USD/JPY przekroczył 160. Jednak według Bloomberga, rachunki Banku Japonii wskazują, że w środę nie doszło do żadnej poważnej interwencji jena.

Japonia wydała już rekordowe 96,4 mld dolarów na wsparcie jena w lipcu, ale waluta ta ma problemy z utrzymaniem zysków, ponieważ duże różnice stóp procentowych, obawy fiskalne i wyższe ceny energii nadal na nią wpływają.

Tymczasem w kwietniu japońskie władze czekały z interwencją do długiego weekendu, a inwestorzy spekulują obecnie, że podobna taktyka może zostać zastosowana podczas nadchodzącego święta Silver Week, który rozpoczyna się wkrótce po posiedzeniu Banku Japonii.

Ponieważ posiedzenie Rezerwy Federalnej odbędzie się zaledwie kilka dni przed posiedzeniem Banku Japonii, a płynność w okresie świątecznym może być potencjalnie mniejsza, jen może stanąć przed kolejnym poważnym testem w okolicach poziomu 160.

Ryzyko interwencji na jenie pozostaje w centrum uwagi.

03 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)