Rentowność 10-letnich amerykańskich obligacji skarbowych na kluczowych poziomach dla akcji

Rentowność 10-letnich amerykańskich obligacji skarbowych na kluczowych poziomach dla akcji

Rentowność 10-letnich amerykańskich obligacji skarbowych testuje kluczowy poziom techniczny dla akcji, przebijając 4,75%, najwyższy poziom od stycznia 2025 r. Kolejny ważny próg to 4,80%, a trwałe przebicie go potencjalnie otworzy drogę do 5,00%.

W przypadku akcji problemem nie jest bezwzględny poziom rentowności, ale raczej tempo jej wzrostu, ponieważ gwałtowne zmiany stóp procentowych historycznie wywierały presję na aktywa ryzykowne.

Tym razem inwestycje oparte na sztucznej inteligencji dodatkowo zwiększają presję, ponieważ wysokie zadłużenie przedsiębiorstw konkuruje z masową emisją obligacji skarbowych o ograniczoną pulę oszczędności.

Tymczasem Departament Skarbu co najmniej podwoił długoterminowe skupy obligacji do 4 miliardów dolarów na operację, co pomogło tymczasowo ograniczyć rentowność, ale nie zmieniło kierunku, ponieważ duża podaż obligacji skarbowych nadal wywiera presję na rynek.

Jak dotąd akcje w dużej mierze ignorowały wyższe stopy procentowe, ale kolejny wzrost może w końcu zmusić inwestorów do ponownej oceny wysokich wycen, szczególnie w przypadku akcji długoterminowych i spółek z sektora sztucznej inteligencji.

02 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)