Niedźwiedzie nastroje o poranku

Niedźwiedzie nastroje o poranku

Wzrost cen na rynku ropy jest kontynuowany, ponieważ konflikt na Bliskim Wschodzie nie słabnie. Brent rośnie dziś powyżej 4% i jest kwotowany już powyżej 95 USD za baryłkę, co umacnia obawy o presję inflacyjną.

Kryzys na rynku obligacji trwa w najlepsze. Dziś na skutek dalszej wyprzedaży rentowność 10-letnich obligacji Japonii rośnie już powyżej 3% dochodząc do nowego rekordu tego stulecia 3,016%. Rentowność ich amerykańskich odpowiedników przekracza poziom 4,8%.

Akcje stają się coraz bardziej wrażliwe na ten kryzys. Sesja w Azji przebiegła zdecydowanie niedźwiedzio ze spadkami indeksów Nikkei 225 oraz Kospi o odpowiednio 2,8% oraz 3,8%. Nastroje są więc ponure.

W Europie kontrakty na główne indeksy również wyraźnie spadają. DAX Future traci 0,5%, a kontrakty na CAC 40 cofają się o 0,3%. Tracą również kontrakty na indeksy z Wall Street. Szczególnie na Nasdaq 100, gdzie spadek na tę chwilę sięga 0,4%.

U nas kontrakty na WIG20 otwarły się 0,3% pod kreską, czyli z relatywnie umiarkowanym spadkiem. Na wykresie godzinowym kurs FW20U2620 odbija się w dół od swoich 50 i 200 godzinowych średnich. Nadal jednak pozostaje w strefie konsolidacji ok. 3950-4040 pkt., więc nic szczególnego się tutaj na razie nie dzieje.

02 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)