Bardzo niepokojąca globalna wyprzedaż obligacji

Bardzo niepokojąca globalna wyprzedaż obligacji

Wraz z wyższymi cenami ropy i wynikającą z tego presją inflacyjną rentowności obligacji rządowych znów rosną na całym świecie. Nakłada się to na gigantyczne zadłużenie poszczególnych krajów oraz rosnące potrzeby pożyczkowe, co skłania inwestorów do żądania coraz wyższej premii za ryzyko. Stąd też tak mocny efekt.

Wskaźnik Bloomberga dotyczący rentowności globalnych obligacji skarbowych wzrósł wczoraj do 3,72%, najwyższego poziomu od 2008 roku, czyli Wielkiego Kryzysu Finansowego, co oznacza czwartą z rzędu sesję wzrostów.

Rentowność 10-letnich brytyjskich obligacji skarbowych wzrosła dziś do 5,21%, najwyższego poziomu od 2008 roku, a rentowność 10-letnich japońskich obligacji skarbowych (JGB) osiągnęła 3,00%, najwyższy poziom od 1996 roku.

Jednocześnie rentowność 10-letnich amerykańskich obligacji skarbowych wzrosła do 4,78%, najwyższego poziomu od stycznia 2025 roku, a rentowność 30-letnich obligacji osiągnęła 5,27%, zbliżając się do najwyższego poziomu od 2007 roku.

Traderzy wyceniają obecnie około 70% prawdopodobieństwo podwyżki stóp procentowych przez Fed w tym miesiącu, podczas gdy podwyżka stóp przez BoJ jest niemal pewna, a podwyżka stóp przez EBC jest w pełni uwzględniona w cenach na przyszły tydzień.

Globalny wskaźnik obligacji Bloomberga spadł od początku roku o -0,9%, odwracając wzrost o +6,8% w 2025 r., przy czym wrzesień i październik były historycznie najgorszymi dwoma miesiącami dla indeksu w ciągu ostatniej dekady ze średnią stratą ponad -1% w każdym z nich.

Rosnące rentowności zagrażają obecnie również zahamowaniu napędzanego sztuczną inteligencją rajdu na rynku akcji, ponieważ wyższe rentowności podnoszą koszty finansowania i utrudniają uzasadnienie wysokich wycen akcji.

01 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)