PMI dla polskiego przemysłu poniżej oczekiwań

PMI dla polskiego przemysłu poniżej oczekiwań

Słaby odczyt indeksu PMI dla przemysłu. Indeks spada do 48,3 pkt. z 49 pkt. w sierpniu przy oczekiwaniach wzrostu do 49,6 pkt.

W komentarzu do raportu czytamy m.in.: „W sierpniu pogorszenie koniunktury w polskim sektorze wytwórczym nasiliło się wraz z szybszym spadkiem produkcji, nowych zamówień i odnowieniem spadku zatrudnienia.

Po tym, jak w lipcu pojawiły się oznaki łagodzenia presji w łańcuchach dostaw, w najnowszym badaniu presja ta nasiliła się, a średnie terminy realizacji dostaw wydłużyły się w największym stopniu od ponad czterech lat. Nastąpiło to pomimo dalszego spadku aktywności zakupowej.

Odzwierciedlając zakłócenia w łańcuchach dostaw i niedobory surowców, inflacja kosztów produkcji wzrosła po raz pierwszy od czterech miesięcy i w dodatku powyżej średniej długoterminowej. Widoczna była presja na marże – ceny wyrobów gotowych rosły w wolniejszym tempie, gdyż firmy starały się wspierać sprzedaż pomimo rosnących kosztów.

Jedynym pozytywnym wnioskiem z najnowszego badania była dalsza poprawa 12-miesięcznych perspektyw produkcji, choć oczekiwania pozostały słabe w porównaniu z długookresowym trendem”.

01 wrz 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)