Warsh głównym motorem zmienności na amerykańskim rynku obligacji

Warsh głównym motorem zmienności na amerykańskim rynku obligacji

Od czasu objęcia stanowiska w maju, trzy największe dzienne ruchy krzywej dochodowości obligacji skarbowych podążały za wystąpieniami Warsha, a jego ostatnie przemówienie w Jackson Hole spowodowało spłaszczenie krzywej o 10 punktów bazowych.

W tym przypadku spłaszczenie oznacza, że ​​rentowności krótkoterminowych obligacji skarbowych wzrosły bardziej niż rentowności długoterminowych, zmniejszając różnicę między nimi.

Warsh ostrzegł, że inflacja nie zwalnia jeszcze znacząco i powiedział, że Fed ma jeszcze „pracę do wykonania”, co spowodowało, że rynki wyceniają około 60% prawdopodobieństwo podwyżki stóp procentowych we wrześniu, w porównaniu do 30% przed piątkowym przemówieniem.

Co istotne, jego ograniczone prognozy wydają się sprawiać, że każde jego przemówienie jest ważnym wydarzeniem rynkowym, a inwestorzy mają trudności ze zrozumieniem jego funkcji reakcji.

Jeśli nadchodzące dane o inflacji i zatrudnieniu nie uzasadnią podwyżki, rynki mogą szybko zniwelować te spekulacje, co doprowadzi do kolejnego gwałtownego ruchu na rynku obligacji skarbowych.

Warsh może chcieć, aby rynki skupiły się na danych, ale na razie jego słowa bardziej wpływają na rynek obligacji niż same dane.

31 sie 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)