Komentarze Warsha wzmacniają zakłady na podwyżkę stóp procentowych

Komentarze Warsha wzmacniają zakłady na podwyżkę stóp procentowych

Prezes Rezerwy Federalnej Kevin Warsh zasygnalizował, że amerykański bank centralny może nie zakończyć walki z inflacją, co podniosło rentowność obligacji i obniżyło ceny akcji.

Rentowności krótkoterminowych obligacji skarbowych wzrosły, ponieważ komentarze Warsha na dorocznej konferencji Rezerwy Federalnej w Jackson Hole zostały odebrane jako sygnał rychłej podwyżki stóp procentowych. Rentowność 2-letnich obligacji skarbowych wzrosła o 0,118 punktu procentowego do 4,348%, co stanowi największy jednodniowy wzrost od marca.

Kontrakty terminowe na stopy procentowe wykazały ostatnio około 58% prawdopodobieństwo podwyżki stóp na wrześniowym posiedzeniu Rezerwy Federalnej, według danych CME Group, w porównaniu z 35% w czwartek.

Indeks S&P 500 początkowo wzrósł po przemówieniu Warsha, a następnie spadł, kończąc dzień na minusie 0,2%. Dolar zyskał na wartości,umacniając się wraz z rentownością obligacji, podczas gdy ceny złota spadły o 3,2%, a indeks Dow Jones Industrial Average spadł o niecałe 0,1%.

Analitycy zauważyli, że Warsh, bardziej powściągliwy niż jego poprzednicy, przedstawił bardziej szczegółową analizę sytuacji gospodarczej i bardziej optymistyczne prognozy, niż niektórzy przewidywali, że bank centralny jest gotowy podnieść stopy procentowe w razie potrzeby.

Akcje spółek kompozytowych i chipów Nasdaq spadły po tym, jak zyski Marvell Technology rozczarowały inwestorów. Chociaż firma produkująca półprzewodniki podniosła prognozy i odnotowała wyższe przychody i zyski, akcje spadły o 10%, co jest kolejnym sygnałem wysokiej poprzeczki, jaką inwestorzy stawiają firmom powiązanym ze sztuczną inteligencją. Nasdaq stracił 0,5%.

31 sie 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)