Problemy z odbiciem na Kruku
Problemy z odbiciem na Kruku
Lider wczorajszej przeceny Kruk w dalszym ciągu zachowuje się jak ptak z podciętymi skrzydłami. Wczoraj spadł 7,7% po wynikach ZGODNYCH z oczekiwaniami. Dziś otworzył się 1,6% w górę, ale po pół godziny handlu kurs akcji jest już ponownie pod kreską, traci 0,3% i po Budimeksie jest drugim najsłabszym walorem w gronie blue chips.
Jeśli po tak solidnym spadku jak wczorajszy, walor nie chce odbijać wraz z całym rynkiem, to coś jest nie tak. Na wykresie dziennym wczorajsza czarna świeca z korpusem ogromnych rozmiarów może wywierać presję i tak to na razie wygląda. Niedźwiedziom udało się jednym strzałem przejść w dół przez obie średnie oraz dolne ograniczenie konsolidacji w strefie 427-445 zł. Szybka odbudowa może być trudna. Jeśli już, to raczej powinna przebiegać jako proces.
Najnowsze.
FTAI rozszerza współpracę z United Airlines. Kolejne potwierdzenie przewagi modelu MRE
Kolejna dobra wiadomość dla akcjonariuszy FTAI Aviation. Spółka ogłosiła rozszerzenie wieloletniej współpracy z United Airlines na silniki CFM56-7B, wykorzystywane w samolotach Boeing 737 Next Generation. Dotychczas obie firmy współpracowały przy silnikach V2500, a teraz United, jeden z największych operatorów CFM56-7B na świecie, zdecydował się objąć tym samym modelem obsługi kolejną część swojej floty. Co ważne, program rozpoczął się już od pierwszej grupy silników w 2026 roku i ma być stopniowo rozszerzany wraz z terminami kolejnych przeglądów.
Dlaczego to takie ciekawe?
ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat
Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.
Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.
Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.
Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.
Wielcy pokazali karty, czyli co agenci Google, OpenAI i Microsoftu mówią o Mecie
Similarweb policzył, że 5 października Muse miało 2,182 mln dziennych aktywnych użytkowników w aplikacjach na iPhone'a i Androida. Trzynastego września, według odczytu z tego samego wykresu, było ich około 0,2 mln, więc w trzy tygodnie liczba wzrosła około dziesięciokrotnie.
Ponad dwa tygodnie po moim webinarze o Mecie swoich nowych agentów pokazali Microsoft, OpenAI i Google, więc sprawdzam przy okazji, co z tego, co mówiłem 22 września, na razie się potwierdza.