Niewielka zmienność na Wall Street. Meta nie rośnie pomimo ugody

Niewielka zmienność na Wall Street. Meta nie rośnie pomimo ugody

Pierwsza godzina sesji na Wall Street wygląda niezbyt ciekawie z punktu widzenia zmienności. Główne indeksy wahają się wokół zera notując zmiany procentowe widoczne dopiero na drugim miejscu po przecinku. Między -0,8% na Nasdaq 100, +0,6% na S&P500 czy też -0,4% na Dow Industria nie ma praktycznie żadnej różnicy. Nuda.

Jedną z głośniejszych dziś spółek jest oczywiście Meta Platforms, której kurs przed sesją rósł ponad 4% po tym, jak firma zgodziła się zapłacić do 16,7 miliarda dolarów w ramach ugody w sprawie roszczeń Facebooka i Instagrama dotyczących krzywdzenia dzieci. Według szacunków zespołu prawnego Meta mogłaby w najgorszym przypadku skutkować odpowiedzialnością sięgającą nawet 1,4 biliona dolarów.

Po rozpoczęciu sesji akcje giganta spadły nawet o 1,4%. Teraz notowane są w okolicach poziomu neutralnego. Dlaczego?

Wygląda na to, że zmienność ta odzwierciedla podręcznikowy scenariusz sesji „kup plotki, sprzedaj newsy”. Ugoda była silnym katalizatorem wzrostowym przed otwarciem sesji, który wywindował Meta do sesyjnego maksimum na poziomie 593,27 USD, ale połączenie realizacji zysków, wysokiej inflacji i ogólnej ostrożności w sektorze technologicznym obniżyło kurs akcji poniżej poprzedniego zamknięcia. na poziomie 570,05 USD, utrzymując kurs na poziomie 567,88 USD i podkreślając, jak wiele niepewności wciąż otacza trajektorię wydatków Meta na sztuczną inteligencję i jej drogę powrotu do 52-tygodniowego maksimum na poziomie 790,80 USD.

26 sie 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)