Pęknięcie na japońskim rynku obligacji może się przerodzić w kolejny globalny szok

Pęknięcie na japońskim rynku obligacji może się przerodzić w kolejny globalny szok

Rentowność 10-letnich obligacji japońskich wzrosła do około 2,80% z około 1,00% w 2024 roku do niemal najwyższego poziomu od lat 90. W rezultacie różnica między rentownościami amerykańskich a japońskich obligacji 10-letnich zmniejszyła się do poniżej 200 punktów bazowych, z prawie 400 punktów bazowych w 2023 roku, co zmniejsza motywację japońskich inwestorów do posiadania obligacji zagranicznych.

Dzieje się tak w momencie, gdy obciążenie zadłużeniem Japonii przekracza 200% PKB, co jest najwyższym wynikiem spośród głównych gospodarek rozwiniętych, pozostawiając decydentów z ograniczonym marginesem na pokrycie wyższych kosztów pożyczek.

Rosnące rentowności wywierają również presję na jena, ponieważ rynki zastanawiają się, czy Japonia jest w stanie utrzymać większe deficyty fiskalne bez dalszego osłabienia waluty.

Dalsza wyprzedaż obligacji może mieć globalne konsekwencje, ponieważ japońscy inwestorzy posiadają biliony dolarów w zagranicznych aktywach takich jak amerykańskie obligacje i akcje, i mogą zacząć przekierowywać kapitał z powrotem do kraju.

W ten sposób stres na rynku obligacji w Japonii może się przerodzić w globalny szok płynności.

27 lip 2026

Najnowsze.

ASML już pracuje nad następcą High-NA EUV. Perspektywa? Około 10 lat

Reuters donosi, że inżynierowie ASML i jego kluczowego partnera optycznego, Carl Zeiss, opublikowali pracę naukową opisującą Hyper-NA EUV, czyli potencjalnego następcę najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych ASML. Według autorów technologia mogłaby być gotowa za około 10 lat, a więc w okolicach 2036 roku.

Nowy system miałby zwiększyć aperturę numeryczną z 0,55 w obecnym High-NA do co najmniej 0,75, umożliwiając drukowanie struktur o rozmiarach nawet 5 nm, ponad jedną trzecią mniejszych niż w High-NA. Mówimy tutaj o wielkości drukowanych struktur, a nie o nazwie procesu technologicznego 5 nm. Co ciekawe, Zeiss jest już podobno w stanie produkować lustra o wymaganej precyzji, a Hyper-NA mogłoby wykorzystywać dotychczasowe źródło światła EUV. Oznaczałoby to rozwój obecnej architektury bez konieczności budowania całej technologii od nowa.

Warto jednak pamiętać, że ASML rozpoczął prace rozwojowe, ale nie podjął jeszcze decyzji o komercyjnej produkcji Hyper-NA. Zresztą sama generacja High-NA dopiero wchodzi na rynek. Intel już wykorzystuje ją w produkcji, Samsung i SK Hynix zapowiadają szersze wdrożenia w 2028 roku, a TSMC w 2030 roku.

Moim zdaniem ta informacja dobrze pokazuje, jak trudno będzie komukolwiek podważyć pozycję ASML w najbardziej zaawansowanej litografii. Firma już dziś prowadzi badania nad technologią, której komercjalizacja może nastąpić dopiero za dekadę, wykorzystując kompetencje i łańcuch dostaw budowane przez dziesięciolecia. Oczywiście nie jest to żaden krótkoterminowy katalizator wyników, ale kolejny przykład przewagi technologicznej, która sprawia, że ASML pozostaje jednym z najbardziej wyjątkowych biznesów w całym sektorze półprzewodników.

Jurek Tomaszewski ASML (ASML)